VENA系(xi)列(lie)自(zi)(zi)動(dong)匹配(pei)器用于真空(kong)鍍膜(mo)(mo)、等離子刻(ke)蝕、等離子清洗(xi)、物理氣(qi)象沉(chen)積，化(hua)學(xue)氣(qi)象沉(chen)積，磁控濺射，以(yi)及太陽能制造(zao)設(she)備PECVD等設(she)備當中，主(zhu)要功(gong)能是實現全(quan)自(zi)(zi)動(dong)匹配(pei)，解(jie)決了現在(zai)國內真空(kong)鍍膜(mo)(mo)設(she)備中的一個技術(shu)空(kong)缺；具有自(zi)(zi)動(dong)，快速，可(ke)(ke)靠，高效(xiao)，準確，節省(sheng)人(ren)力和時(shi)間等特點。可(ke)(ke)選的射頻系(xi)統(tong)(tong)檢測(ce)模塊可(ke)(ke)實時(shi)檢測(ce)出系(xi)統(tong)(tong)的正反功(gong)率、駐波比、射頻信(xin)號(hao)峰值電(dian)(dian)壓(ya)、電(dian)(dian)流(liu)、直流(liu)偏置電(dian)(dian)壓(ya)等，從而使您(nin)能夠發現并顯著降低制程變化(hua)性。

優勢

●性能安全可靠，長時間工作穩定
●實時反射功率測量與控制
●優化設計、安裝、使用與維修十分簡便
●傳輸效率高，運行噪音小
●屏蔽效果好
●可外接匹配控制盒，與其他射頻(pin)功率(lv)發生器配合使用

特點

●加強了鍍膜與刻蝕工藝的控制
●優化的匹配算法加速匹配時間
●最大限度地減少駐波比與反射功率
●嚴格的可靠性測試

使用參數：