VENA系列(lie)自(zi)動匹(pi)(pi)配(pei)器用于真(zhen)空(kong)鍍膜(mo)、等(deng)離子刻(ke)蝕、等(deng)離子清洗、物理氣(qi)象(xiang)沉積(ji)，化學氣(qi)象(xiang)沉積(ji)，磁控濺射，以及(ji)太陽能(neng)(neng)制造(zao)設備(bei)PECVD等(deng)設備(bei)當中，主要功能(neng)(neng)是實現全(quan)自(zi)動匹(pi)(pi)配(pei)，解決了(le)現在國內真(zhen)空(kong)鍍膜(mo)設備(bei)中的(de)(de)一個技術(shu)空(kong)缺；具有自(zi)動，快速，可靠，高效，準確，節(jie)省人力和時(shi)間等(deng)特點(dian)。可選的(de)(de)射頻(pin)系統檢測(ce)(ce)模塊可實時(shi)檢測(ce)(ce)出系統的(de)(de)正(zheng)反功率、駐波比(bi)、射頻(pin)信號(hao)峰值電(dian)壓、電(dian)流、直流偏(pian)置電(dian)壓等(deng)，從而使您能(neng)(neng)夠發(fa)現并顯著降低(di)制程變化性。

優勢

●性能安全可靠，長時間工作穩定
●實時反射功率測量與控制
●優化設計、安裝、使用與維修十分簡便
●傳輸效率高，運行噪音小
●屏蔽效果好
●可外接匹(pi)配(pei)控制盒，與其他射頻功率發生器配(pei)合使用

特點

●加強了鍍膜與刻蝕工藝的控制
●優化的匹配算法加速匹配時間
●最大限度地減少駐波比與反射功率
●嚴格的可靠性測試

使用參數：